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本实用新型公开一种侧面进气的成膜装置，涉及半导体生产设备技术领域，包括进气室、反应室和基座；进气室内设置有多个保护气体流道和多个反应气体流道；多个保护气体流道和多个反应气体流道的进气端均位于进气室外侧，多个保护气体流道和多个反应气体流道的出...
该专利属于宁波恒普真空科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波恒普真空科技股份有限公司授权不得商用。

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