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本发明公开了一种ArF浸没式光刻胶用添加剂及含其的光刻胶。具体公开了一种如式I所示的添加剂；所述添加剂的重均分子量为1000～3000；所述添加剂的重均分子量/数均分子量比值为1～5。本发明添加剂至少具有以下优势：含有该添加剂的光刻胶可改善...
该专利属于上海芯刻微材料技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海芯刻微材料技术有限责任公司授权不得商用。

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