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等离子处理装置制造方法及图纸
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文档序号:3718938
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在腔室(1)上部的开口部配置有由微波驱动并产生电磁场的天线部(3),在天线部(3)的下部设置有密封腔室(1)的开口部的顶板(4),在顶板(4)的下表面一侧设置有环形的突条(41),其径向的厚度以锥形连续变化,从而在等离子的任意条件下均可以在...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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