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本发明公开了一种检测等离子体工艺异常的频率监控装置和方法，其通过检测变频ＲＦ电源的频率是否超出所建立的上限和下限而检测ＲＦ驱动的等离子体工艺腔室内的异常情况。在第一方面，在新的工艺步骤开始之后或者在采样控制信号改变状态之后，建立第一对上限和...
该专利属于应用材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。

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