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本发明涉及在旋转或舟形炉中，通过使用氢作为还原剂，还原钼酸铵或三氧化钼得到的高纯ＭｏＯ↓［２］粉末。将通过压制／烧结、热压和／或ＨＩＰ进行的粉末固结用来制备圆盘、厚块或板，该圆盘、厚块或板用作溅射靶。使用适宜的溅射方法或其它物理方式将该Ｍｏ...
该专利属于H.C.施塔克公司所有，仅供学习研究参考，未经过H.C.施塔克公司授权不得商用。

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