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本发明涉及一种工业污染场地有机污染土壤原位修复的方法，该修复方法包括阻隔和降解两个过程，具体的将活性炭，石英砂，零价铁及降解菌混合压实，制成阻隔层，覆盖在有机污染土壤之上，形成原位覆盖；在有机污染土壤的底层及阻隔层上层的水平方向分别铺设有电...
该专利属于中国科学院沈阳应用生态研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院沈阳应用生态研究所授权不得商用。

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