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本发明提供一种用于纯F2制备的电解槽装置，包括：密闭的电解槽，所述电解槽顶部设置有第一气体出气口、第二气体出气口、进料口，以及设置于所述电解槽四周的加热件；设置于所述电解槽中的阴极、隔膜、阳极，其中，所述隔膜用于隔离所述阴极及所述阳极；设置...
该专利属于福建德尔科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建德尔科技股份有限公司授权不得商用。

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