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本实用新型提供了一种原子层沉积工艺的气路装置，包括第一输送管道和第二输送管道，所述第一输送管道和第二输送管道并联连通至汇流管道，所述第一输送管道的输入端并联连接有第一前驱体源以及载气源，所述第二输送管道的输入端并联连接有第二前驱体源以及载气...
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