专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
中锗科技有限公司
>
一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法技术
>技术资料下载
下载一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法的技术资料
文档序号:36292900
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种去除锗抛光片脏污和霉斑的方法,包括如下步骤:1)将锗单晶抛光片间隔插入特氟龙卡塞,插入数量不大于13片/卡,将特氟龙卡塞连同锗单晶抛光片浸没在第一混合水溶液中浸泡10
...
该专利属于中锗科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中锗科技有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。