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本实用新型涉及一种膜层制备装置，用于在基材表面涂覆制备膜层，其包括设置在膜层涂覆工位开端和膜层固化工位末端之间的检测单元，所述检测单元包括膜层状态检测器和传送组件；所述传送组件包括平行设置的第一传送线和第二传送线；所述基材通过所述第一传送线...
该专利属于苏州方昇光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州方昇光电股份有限公司授权不得商用。

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