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本申请提供一种光刻机照明系统均匀性校正装置，包括：校正组件，所述校正组件包括若干个校正手指和用于支撑所述校正手指的手指支架；调节机构，所述调节机构用于对所述若干个校正手指的共面度进行调节，使所有校正手指背向所述手指支架的一面共面。本申请创新...
该专利属于上海镭望光学科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海镭望光学科技有限公司授权不得商用。

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