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本发明涉及介质半填充射频谐振腔，通过在射频谐振腔内填充介质，保留束流孔通道，在相同的运行频率下降低射频电磁场的波长，运行频率即谐振频率，从而减小谐振腔的尺寸，甚至简化部分谐振腔的形状，降低谐振腔的加工、处理难度。难度。难度。
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该专利属于中国科学院近代物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院近代物理研究所授权不得商用。

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