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本实用新型属于磁控溅射设备技术领域，公开了一种磁轭组件及磁控溅射设备。磁轭组件包括磁轭、第一永磁体和第二永磁体；第一永磁体设置于所述磁轭的顶面，所述第一永磁体的两个磁级上下排布；所述磁轭的相对两侧均设置有所述第二永磁体，所述第二永磁体的下方...
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