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本发明提供一种具有遮蔽装置的薄膜沉积设备，主要包括一反应腔体、一承载盘及一遮蔽装置，其中部分遮蔽装置及承载盘位于反应腔体内。遮蔽装置包括两个遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接并驱动两个遮蔽板朝相反方向摆动。两个遮蔽板分别包括一彼此面对的侧...
该专利属于鑫天虹(厦门)科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鑫天虹(厦门)科技有限公司授权不得商用。

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