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一种用于制造半导体装置的方法和系统，用于制造半导体装置的方法包括于基板上方形成包含光阻剂组合物的光阻层，以形成光阻剂涂布基板。光阻层选择性地曝光于光化辐射中以在光阻层中形成潜伏图案。通过施加一显影剂至该经选择性曝光光阻层来显影该潜伏图案，以...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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