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本实用新型公开了一种提高气体处理效果的分离设备,包括底座、分离机构和出气机构,所述底座的上端表面安装有安装架,所述分离机构位于底座的上端,所述分离机构通过安装架与底座的上端固定连接,所述出气机构位于分离机构的上端表面,所述分离机构的前端设置...该专利属于苏州成于思气体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州成于思气体科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种提高气体处理效果的分离设备,包括底座、分离机构和出气机构,所述底座的上端表面安装有安装架,所述分离机构位于底座的上端,所述分离机构通过安装架与底座的上端固定连接,所述出气机构位于分离机构的上端表面,所述分离机构的前端设置...