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本申请属于增强现实技术领域，具体涉及一种表面浮雕光栅衍射光波导的母版制作方法、光波导和设备，其中的方法包括：在基板表面形成正性光刻胶层，得到具有均匀光刻胶掩膜的基板；该具有均匀光刻胶掩膜的基板上设有目标结构区域，使用光刻掩膜板遮挡目标结构区...
该专利属于北京至格科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京至格科技有限公司授权不得商用。

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