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本发明公开了一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，包括以下步骤：将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与还原剂、纯水混合进行返溶反应，得到含二价钴的溶液；所述四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与所述还原剂的摩尔比为1：40
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该专利属于格林美（江苏）钴业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过格林美（江苏）钴业股份有限公司授权不得商用。

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