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本发明提供一种锗硅异质结晶体管及其制备方法,其中制备方法包括:提供一衬底,在其上形成第一电介质层、赝栅和第二电介质层;形成第三电介质层;形成第一锗硅层、第二多晶硅层、第四电介质层;去除第二电介质层和第三电介质层;形成第五电介质层;去除赝栅上...该专利属于华虹半导体(无锡)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华虹半导体(无锡)有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种锗硅异质结晶体管及其制备方法,其中制备方法包括:提供一衬底,在其上形成第一电介质层、赝栅和第二电介质层;形成第三电介质层;形成第一锗硅层、第二多晶硅层、第四电介质层;去除第二电介质层和第三电介质层;形成第五电介质层;去除赝栅上...