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本实用新型涉及一种掩膜的图形化设备。该图形化设备包括用于承载表面包括掩膜的硅片的承载平台，图形打印组件和控制系统，所述图形打印组件包括光源系统和掩膜版，所述光源系统包括光源，所述掩膜版位于所述光源与所述承载平台之间，所述掩膜版使得所述光源发...
该专利属于苏州太阳井新能源有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州太阳井新能源有限公司授权不得商用。

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