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预测容易发生过早使用寿命失效的裸片制造技术
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下载预测容易发生过早使用寿命失效的裸片的技术资料
文档序号:35637630
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在裸片级上对半导体良率进行模型化以预测容易发生过早使用寿命失效(ELF)的裸片。依据从半导体制造过程中的晶片测试获得的参数数据进行第一裸片良率计算。仅依据裸片位置进行第二裸片良率计算。所述第一裸片良率计算与所述第二裸片良率计算之间的差是预测...
该专利属于PDF决策公司所有,仅供学习研究参考,未经过PDF决策公司授权不得商用。
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