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基于后通孔技术的三维半导体集成封装结构及工艺制造技术
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文档序号:35512558
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本发明公开一种基于后通孔技术的三维半导体集成封装结构及工艺。该三维集成封装结构包括载板(晶圆)、第一芯粒、第二芯粒、塑封结构、第一局部互连层、第二局部互连层、第一再布线层、第二再布线层。将载板减薄并刻蚀出若干硅通孔;在通孔内沉积阻挡层、TS...
该专利属于武汉大学所有,仅供学习研究参考,未经过武汉大学授权不得商用。
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