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本发明属于纳米薄膜材料测量相关技术领域，其公开了一种纳米薄膜材料厚度和密度不均匀性的测量方法，方法包括：采用穆勒矩阵椭偏仪测量对应的实际穆勒矩阵和实际退偏度；依据菲涅尔反射理论获取待测样品的幅值比和相位差并将其代入待测样品的理论穆勒矩阵；以...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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