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关于本公开的一个方式的清洁方法，通过将静电吸盘暴露于等离子体，并将所述静电吸盘的电位与所述等离子体的电位的关系保持为电子电流从所述等离子体朝向所述静电吸盘流入的关系，来清洁静电吸盘。来清洁静电吸盘。
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该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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