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本发明提供了一种半导体器件及其制作方法，所述方法包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底包括支撑衬底、埋氧层以及光波导材料层；在光波导材料层上表面沉积硬掩模层；通过三次及以上的光刻刻蚀步骤，在硬掩模层上刻蚀出与目标光波导形貌一致的硬掩模图案，所...
该专利属于杭州光智元科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州光智元科技有限公司授权不得商用。

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