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本发明属于光刻技术领域，尤其涉及一种气浴装置。本发明的气浴装置，包括：整流喷射单元，整流喷射单元的第一面上分别设置有用于喷射气流的第一环形喷射口和第二环形喷射口，第二环形喷射口围绕第一环形喷射口的外周设置，第一环形喷射口的内侧设置有用于容纳...
该专利属于北京华卓精科科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京华卓精科科技股份有限公司授权不得商用。

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