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本实用新型涉及清洁设备技术领域，具体公开了一种基站及清洁系统，包括：站体，具有用于清洗清洁设备拖擦件的清洗槽；水箱组件，用于向所述清洗槽输送清洁用水，包括层叠设置在所述站体内的第一水箱、第二水箱；清洁液瓶，用于向所述清洗槽输送清洁液，所述清...
该专利属于美智纵横科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过美智纵横科技有限责任公司授权不得商用。

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