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本发明公开了一种存储器及其制备方法、存储系统，先在衬底上形成堆叠层，该堆叠层包括第一区域和与第一区域相邻的第二区域。再在堆叠层上形成图案化硬掩模层，该图案化硬掩模层中形成有覆盖第一区域的第一停止层，该图案化硬掩模层包括位于第一停止层上的第一...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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