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硫醚类铜基自组装膜的制备及缓蚀应用制造技术
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文档序号:34774149
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本发明涉及缓蚀应用技术领域,提供了一种硫醚类化合物的制备方法及在金属铜表面形成SAMs的方法,硫醚类化合物的制备包括:S1、以N
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该专利属于中北大学所有,仅供学习研究参考,未经过中北大学授权不得商用。
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