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文档序号:34381513
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一种量测方法,包括:在衬底上执行第一次曝光,以形成包括多个第一目标单位的第一图案化层,每个第一目标单位包括第一目标特征;在衬底上执行第二次曝光,以形成第二图案化层,该第二图案化层包括与相应一些第一目标单位套刻的多个第二目标单位,每个第二目标...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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