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一种半导体结构及其形成方法，形成方法包括：提供基底，包括衬底以及凸出于衬底的鳍部，基底包括用于形成第一器件的第一区域以及用于形成第二器件的第二区域，其中，第一器件的工作电压大于第二器件的工作电压；形成保形覆盖第一区域和第二区域的鳍部的第一栅...
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