温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及用于反射辐射，特别用于反射EUV辐射(2)的光学元件(1)，包括：基板(3)，具有其上施加反射涂层(5)的表面(4)，其中基板(3)中形成至少一个通道(6)，其中冷却介质(7)优选地能够流过所述通道(6)，并且其中基板(3)由石英...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及用于反射辐射，特别用于反射EUV辐射(2)的光学元件(1)，包括：基板(3)，具有其上施加反射涂层(5)的表面(4)，其中基板(3)中形成至少一个通道(6)，其中冷却介质(7)优选地能够流过所述通道(6)，并且其中基板(3)由石英...