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本申请公开了一种晶圆片试验用环境系统，其技术要点在于，包括：试验操作腔、2个样品存储腔、加热罩、真空管路系统、洁净管路系统；所述试验操作腔用于放置机械臂；所述样品存储腔用于放置晶圆片；所述2个样品存储腔设置在所述试验操作腔的两侧，且所述试验...
该专利属于苏州中科科美科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州中科科美科技有限公司授权不得商用。

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