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本发明涉及用于蚀刻银(Ag)或含银膜的蚀刻液组合物及其制备方法。根据本发明的蚀刻液组合物，在银或含银的金属膜的蚀刻工序中，可通过在不损坏底层膜的情况下改善残渣并防止析出物的产生，可以使形成精细布线时的偏差缺陷最小化，从而改善蚀刻特性。从而改...
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