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本实用新型公开了一种晶圆抛光系统，至少包括一个抛光单元；抛光单元包括晶圆传输通道，及至少两个抛光模组，抛光模组位于晶圆传输通道的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；晶圆传输通道上有至少两个工...
该专利属于杭州众硅电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州众硅电子科技有限公司授权不得商用。

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