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本发明属于高熵难熔金属合金溅射靶材技术领域，具体涉及一种大尺寸高熵高纯度难熔金属合金溅射靶材及其制备工艺，包括以下步骤：步骤S1，将金属粉与用氟和/或氯元素气体反应，制备出卤化物前驱体；步骤S2，对卤化物前驱体进行提纯，得到高纯度卤化物；步...
该专利属于亚芯电子科技（常州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过亚芯电子科技（常州）有限公司授权不得商用。

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