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本发明公开了一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法，该发明属于薄膜非线性光学技术领域。该发明采用原子层薄膜沉积技术制备氮化硅薄膜，通过调控前驱物组份的化学计量比，实现氮化硅薄膜非线性光学增强的效果。具体是指将洁净的衬底放置在镀膜夹具后，利用原...
该专利属于苏州领锐源奕光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州领锐源奕光电科技有限公司授权不得商用。

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