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本发明公开了一种带质量平衡补偿的可变光阑及光刻机。可变光阑包括：基座；X向组件，设于基座上，X向组件包括两个X向刀片；Y向组件，设于基座上且与X向组件垂直，Y向组件包括两个Y向刀片，两个Y向刀片与两个X向刀片共同围成用于曝光的狭缝窗口；补偿...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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