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本申请提供一种光学邻近修正方法、装置、电子设备和存储介质，该方法包括基于所述初始掩膜版图形，对所述目标图形中各个目标图案单元进行光刻线宽模拟预测；其中，所述光刻线宽模拟预测，包括以下步骤：根据所述目标图形中各个目标图案单元的图案参数，分别确...
该专利属于福建省晋华集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建省晋华集成电路有限公司授权不得商用。

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