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本申请提供一种镀膜装置及DLC镀膜工艺，涉及材料表面处理技术领域。镀膜装置包括真空腔体、转架、脉冲偏压电源、第一弧靶、阳极电源、弧靶电源、第二弧靶、屏蔽挡板、靶电源及阴极靶；转架转动设于真空腔体中，脉冲偏压电源连接转架，第一弧靶及第二弧靶设...
该专利属于松山湖材料实验室所有，仅供学习研究参考，未经过松山湖材料实验室授权不得商用。

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