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本实用新型涉及一种锗晶片清洗水槽，属于单晶片加工技术领域，包括外槽和内槽，所述内槽置于外槽内部，所述内槽包括内槽本体和内槽支架，内槽本体嵌接于内槽支架上，所述内槽本体底部开设有出水孔，顶部设置有喷淋管，侧面下部开数孔分别连接注水管和气管，所...
该专利属于云南中科鑫圆晶体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过云南中科鑫圆晶体材料有限公司授权不得商用。

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