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本发明提供蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法，上述蚀刻液组合物包含过硫酸铵、含氟化合物、含氯化合物、环状胺化合物、无机酸、硫酸盐和水，且以下数学式1所表示的Y值为2.6～11.0，数学式1中，NH
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该专利属于东友精细化工有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东友精细化工有限公司授权不得商用。

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