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根据本发明的一实施例，金属氮化物薄膜的形成方法包括：沉积步骤，向基板供应金属前驱体而在上述基板的表面有选择地沉积；卤化处理步骤，向上述基板供应卤素气体而在上述基板的表面形成金属卤素化合物；及氮化步骤，向上述基板供应氮源而与上述金属卤素化合物...
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