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一种耐腐蚀涂层制备方法、半导体零部件和等离子体反应装置，其中方法包括：提供零部件本体，零部件本体至少包括不共面的第一待涂面和第二待涂面；在第一待涂面上形成致密的耐腐蚀涂层，同时在第二待涂面形成疏松的耐腐蚀涂层；对零部件本体进行清洁处理，去除...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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