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一种功率电极及等离子体处理设备制造技术
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下载一种功率电极及等离子体处理设备的技术资料
文档序号:32741988
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本发明公开了一种功率电极及等离子体处理设备,该功率电极的中心区域相对作为下电极的基座的距离较近,外围区域相对基座比较远,故该等离子体设备的反应室内部中间区域的等离子体密度比较高,外围区域的等离子体密度比较低,其中中间区域的等离子体对于晶圆加...
该专利属于拓荆科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拓荆科技股份有限公司授权不得商用。
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