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本实用新型公开了一种斜式双光罩滚轮光刻设备，其包括一滚轮固定装置以及与滚轮固定装置间隔开地设置的一光刻装置。滚轮固定装置用来固定包覆有一光阻层的一金属滚轮。光刻装置包含两个曝光光源及两个光罩，并且两个曝光光源分别能用来配合两个光罩对光阻层的...
该专利属于光群雷射科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光群雷射科技股份有限公司授权不得商用。

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