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本实用新型提供了一种晶圆刻蚀设备。晶圆刻蚀设备包括：反应室，具有反应腔室、进气孔及排气部，进气孔通过反应腔室与排气部连通；基座，基座设置在反应腔室内，以用于承载待刻蚀晶圆；其中，进气孔的延伸方向呈螺旋状；或者，进气孔包括相互连通的第一孔段和...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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