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一种同步热处理/磁控溅射TiO2薄膜工艺方法技术
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文档序号:32589502
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一种同步热处理/磁控溅射TiO2薄膜工艺方法,属于薄膜制备领域。本发明是解决现有磁控溅射技术制备TiO2薄膜时需要后续高温退火处理的问题。沉积TiO2薄膜时利用等离子体源的热辐射和离子轰击效应同步实现单层TiO2快速高温退火处理,等离子体源...
该专利属于黑龙江省海振科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过黑龙江省海振科技有限公司授权不得商用。
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