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一种适用于普抗8μm锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法技术
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下载一种适用于普抗8μm锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法的技术资料
文档序号:32464923
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本发明公开了一种适用于普抗8μm锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法,添加剂包括苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠、邻苯甲酰磺酰亚胺钠、健那绿B、聚乙二醇、盐酸;使用方法为将添加剂加入硫酸铜电解液中,使电解液中铜离子90
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该专利属于九江德福科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过九江德福科技股份有限公司授权不得商用。
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