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侧壁半导体晶体管及其制造方法技术
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文档序号:3238268
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一种新颖晶体管结构及用于制造该结构的方法。该晶体管结构包括:(a)衬底;以及(b)在所述衬底上的半导体区域,栅极介质区域,和栅极区域,其中所述栅极介质区域夹在所述半导体区域和所述栅极区域之间,其中所述半导体区域通过所述栅极介质区域与所述栅极...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。
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